发布时间: 2017年9月 | 查看所有光学新动态
随着光源、数字传感器和镀膜机技术的不断发展,光学滤光片也自然而然地随之发展并不断进步。光学滤光片对于自动化、能源、医疗成像、安保和多元件光学系统中需求最严苛的一些应用非常关键。
这些发展需要开发新基底(例如柔性薄膜聚合物,以及包括硅与锗在内的红外级材料),或采用产生高透射率的新化学品与化合物,以及在紫外与红外光谱内具有高截止率的滤光片。镀膜机技术的进步带来了精度更高的滤光片,这些滤光片能产生<1nm的带宽,而公差<1%,这真正将顶级分光光度计的功能发挥到了极致。随着每项技术的进步,公差与规格已进一步获得优化,从而产生表面质量、表面平整度、平行度及传输波前更好的精密基底。
在几乎每项消费应用和科学应用中,新材料、亚纳米规格、深紫外到远红外的光谱范围以及经过改善的各种公差将不断推动光学和光电子学的发展。
爱特蒙特光学不断改进光学滤光片的规格与公差。以下列表显示了我们最近改进的一些光学滤光片功能。
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表面质量:20-10 |
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表面平整度:λ/10 P-V |
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传输波前:λ/20 RMS |
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紫外线波长低至250nm,而红外线波长接近4000nm |
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滤光片的厚度低至200µm |
图5: TECHSPEC®高性能荧光二向色性滤光片的表面与波前图
爱特蒙特光学能提供的滤光片最大直径为300mm。由于溅射与镀膜存在限制,因此对于这么大的直径,需要关注基底的公差与均匀性。
常用的滤光片基底材料包括熔融石英、N-BK7和浮法玻璃。最近出现了采用氟化物材料、红外晶体材料(例如硅与锗)以及聚合物和塑料的趋势。
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