全息光栅是由两束激光束干涉形成条纹,并在抛光底片上曝光,曝光介质上就形成了正弦横截面图案。
全息光栅产生的杂散光比刻划光栅少,每毫米可有3600线,高于理论分辨率。由于正横截面图案的关系,全息光栅不容易产生闪耀,与刻划型光栅相比效率也低了一些。但是,值得一提的是,当刻线宽度与波长之比接近1的时候,全息光栅的效率事实上与刻划行光栅是一样的。而且,每毫米1800线的全息光栅在500nm时与刻划光栅的效率是一样的。全息光栅与刻划光栅采取同样的方法进行复制。
光栅处理:光栅需要进行特殊处理,不过要避免它们沾染指纹和气溶胶。光栅只能由边缘处进行处理。在清理光栅前,请与我们联系。
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